• 光刻膠材料大家聽(tīng)多了光刻機(jī)、蝕刻機(jī)以及nm工藝這樣的術(shù)語(yǔ)，對(duì)光刻膠還是十分陌生的。買(mǎi)回來(lái)的硅圓片經(jīng)過(guò)檢查無(wú)破損后即可投入生產(chǎn)線(xiàn)上，前期可能還有各種成膜工藝，然后...2018-06-05 08:50:37
• 新型多觸發(fā)極紫外光刻膠材料UV）光刻一直被認(rèn)為是下一個(gè)可行的光刻方案。然而，在光學(xué)系統(tǒng)、掩膜版、光刻膠材料等方面的技術(shù)難題阻礙了這一技術(shù)的應(yīng)用。例如，EUV光掩膜系統(tǒng)已經(jīng)由原來(lái)...2017-08-17 11:54:14
• 國(guó)內(nèi)外光刻膠發(fā)展及應(yīng)用探討體管到現(xiàn)在能集成150億個(gè)晶體管，實(shí)現(xiàn)這種爆炸式的性能突破最關(guān)鍵的就是光刻膠材料也在同步發(fā)展，只有光刻膠的性能達(dá)標(biāo)，下游產(chǎn)業(yè)鏈才能有更好的發(fā)展。眾所周...2024-05-10 09:47:04
• 一文了解SU-8光刻膠個(gè)芯片制造工藝的35%，并且耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的40%-50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場(chǎng)巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造...2023-07-25 08:58:21
• 數(shù)字微流控芯片的基本組成進(jìn)行了基于介質(zhì)上電潤(rùn)濕的研究。SU-8光刻膠是近幾年應(yīng)用非常廣泛的新型光刻膠材料。由于其具有良好的力學(xué)性能、絕緣性能、光學(xué)性能、化學(xué)性能等特點(diǎn)，可以用...2023-07-07 09:33:36
• 光刻膠成分及用途。光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當(dāng)紫外光或電子束的照射時(shí)，光刻膠材料本身的特性會(huì)發(fā)生改變，經(jīng)過(guò)顯影液顯影后，曝光的負(fù)性光刻膠或未曝光的正性...2017-10-31 17:26:19
• 光刻膠基礎(chǔ)知識(shí)顆粒大小、顯影時(shí)的溶脹、電子散射等）。通常正膠的分辨率要高于負(fù)膠。2.光刻膠材料光刻膠通常有三種成分：感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時(shí)還...2017-08-21 10:09:09
• 光刻膠成分及其應(yīng)用料聚在一起的粘合劑，給予光刻膠其機(jī)械和化學(xué)性質(zhì)。? ? ??光引發(fā)劑：光刻膠材料中的光敏成分，對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。? ? ??添加劑：控制光刻膠材料...2016-11-01 14:31:03
• 如何選購(gòu)光刻膠？光刻加工工藝中為了圖形轉(zhuǎn)移，輻照必須作用在光刻膠上，通過(guò)改變光刻膠材料的性質(zhì)，使得在完成光刻工藝后，光刻版圖形被復(fù)制在圓片的表面。而加工前，如何選用光刻膠在很大程度上已經(jīng)決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是最...2016-09-30 09:59:46
• 光刻膠的類(lèi)型和優(yōu)缺點(diǎn)分析.0之間。對(duì)于亞微米圖形對(duì)比度要大于1。通常正膠對(duì)比度要大于負(fù)膠。三、光刻膠材料光刻膠材料通常有三種成分：感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中優(yōu)...2016-08-23 10:12:23