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光刻膠成分及其應用

光刻膠的組成

       光固化材料、光刻膠雖然都是由光引發(fā)劑(或光敏劑)、樹脂、單體(或活性稀釋劑)三種主要化學品原料和其他助劑組成的,但光刻膠需要使用專用的化學品原料。光刻膠是成像材料,和光固化材料相比,用途不同,使用的曝光光源和光能不同,反應機理不完全相同,對于材料的溶解性、耐蝕刻性、感光性能、耐熱性等要求不同,各類光刻膠使用的光引發(fā)劑、樹脂、單體等原料需要化學結構不同、性能各異的專用化學品。而且光刻膠用于加工制作非常精細的圖形線路,對原材料的純度、雜質、金屬離子含量等有非常高的要求。光刻膠種類非常多,根據(jù)其化學反應機理和顯影原理,可分負性膠和正性膠兩類。基于光刻膠的化學結構,可以分為三種類型:光聚合型、光分解型、光交聯(lián)型。光刻膠經過幾十年不斷的發(fā)展和進步,應用領域不斷擴大,衍生出非常多的種類,不同用途的光刻膠曝光光源、反應機理、制造工藝、成膜特性、加工圖形線路的精度等要求性能不同,對于原材料的性能要求也不一樣。因此每一類光刻膠使用的原料在化學結構、性能上都比較特殊,要求不同品質等級的專用化學品。

光刻膠的成分

      溶劑:使光刻膠具有流動性,易揮發(fā),對于光刻膠的化學性質幾乎沒有影響。

      樹脂:惰性的聚合物,用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑,給予光刻膠其機械和化學性質。

      光引發(fā)劑:光刻膠材料中的光敏成分,對光能發(fā)生光化學反應。

      添加劑:控制光刻膠材料特殊方面的化學物質,用來控制和改變光刻膠材料的特定化學性質光響應特性。

光刻膠應用分類

應用領域

使用的光刻膠類型

印制電路板

干膜光刻膠、濕膜光刻膠、阻焊油墨光刻膠等

液晶顯示器

TFT-LCD光刻膠、彩色濾光片用彩色光刻膠、黑色光刻膠、LCD襯墊料光刻膠等

半導體集成電路

g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、掩模版光刻膠等

其他用途

CCD攝像頭彩色濾光片的彩色光刻膠、觸摸屏透明光刻膠、MEMS光刻膠、生物芯片光刻膠等

產品應用介紹

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產品應用介紹——印刷線路板干膜工藝

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產品應用介紹——LCD彩色濾光片工藝(一)

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經過300道以上的制程產生

    TFT-LCD必須在精密的無塵室內,經過300道以上的制程生產出來。無塵室內的潔凈度,最高等級可達[10],即是在無塵室環(huán)境內,每立方尺只有10顆粉塵。

產品應用介紹——LCD彩色濾光片工藝(二)

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產品應用介紹——集成電路光刻工藝

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標簽:   光刻膠
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