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首頁 > 站內(nèi)搜索 > 全站搜索  '關(guān)鍵字: 硅片'
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  • 拋光硅片拋光硅片簡介大小1英寸到4英寸不等,厚度0.2mm、0.4mm、1mm、1.2mm等不同厚度,單面拋光。拋光硅片參數(shù)及用途:參數(shù)類型Si技術(shù)指標產(chǎn)品尺寸...2021-04-27 16:48:24
  • PDMS和硅片鍵合方法鍵合PDMS和硅片的過程涉及幾個關(guān)鍵步驟和注意事項,以確保鍵合質(zhì)量和穩(wěn)定性。以下是基于提供的搜索結(jié)果的詳細解釋。等離子處理工藝的作用等離子處理工藝在PDMS和硅片...2025-01-09 09:59:09
  • 微流控硅片在顯影后上有大量的光刻膠殘留是什么原因呢?微流控顯影后硅片上有大量的光刻膠殘留可能是由于多種因素造成的。以下是可能導致這種情況的一些原因和解決方法:可能的原因顯影液不足:顯影液的量不足可能導致顯影不完全...2024-10-31 08:52:04
  • 汶顥股份:硅片模具制作流程您好!感謝您對我公司的信任與支持!有何事宜歡迎來電聯(lián)系!?硅片模具制作總體來說為:2洗(清洗和顯影)1曝光。注:1. 每做一步停1~2min,溫度,涂膠等均勻;2. 注意紫外光強度。?一、硅片清洗1.?清洗...2018-05-21 09:29:59
  • 單晶硅片用途,目前的集成電路半導體器件大多數(shù)是用硅材料制造的。單晶硅也稱硅單晶,單晶硅片主要用于制作半導體元件。用途: 是制造半導體硅器件的原料,用于制大功率整...2017-10-19 10:24:13
  • 微納加工 - 純硅模具加工工藝 & 硅片模具補光刻膠在高深寬方面的不足之處。 1.微納加工——純硅模具工藝流程(a)硅片的清洗、烘干(b)熱生長氧化層(c)涂光刻膠(d)光刻(e)顯影(f)去...2017-10-09 16:49:26
  • 汶顥芯片硅片模具使用注意事項一、硅片模具出廠前已進行揮發(fā)處理。二、硅片模具使用須在無塵環(huán)境下進行。三、使用鏟型鑷子夾取為佳,避免模具邊緣臟污,影響外觀。四、注意硅片任何操作下都需要...2016-09-27 13:42:47
  • 委托開發(fā)電級的基片和設計有特征微流道的PDMS蓋片。2、基片:基片材質(zhì)為玻璃或者硅片,上面設計有電路。基片上電路分為兩部分,與反應試劑接觸的反應區(qū)域電路和與...2025-07-02 06:37:07
  • SU-8光刻膠模具SU-8硅片模具介紹在微流控芯片的加工過程中,通常都會用到模具,尤其是在PDMS芯片加工的過程中。PDMS芯片加工通常采用軟光刻技術(shù)來制作。為了執(zhí)行PDMS...2025-07-02 06:37:07
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