如何選擇正確的旋涂機(jī)（勻膠機(jī)）用于SU-8微流控模具的光刻技術(shù)？

旋涂機(jī)（勻膠機(jī)）用于微流控模具的光刻，以 在基底上涂覆光致抗蝕劑層（例如SU-8）。它們適用于各種光刻膠，因此對(duì)于SU-8光刻應(yīng)用來(lái)說(shuō)，驗(yàn)證一些參數(shù)非常重要，以確保您的設(shè)備能夠根據(jù)您的需求進(jìn)行微調(diào)。本指南的目的是為想要購(gòu)買用于SU-8模具制造的旋涂機(jī)的研究人員提供相關(guān)要點(diǎn)。

光刻膠涂層簡(jiǎn)介

基材上的光致抗蝕劑涂層可以以多種方式制造，最常用的是旋涂涂層，將液體光致抗蝕劑涂覆在旋轉(zhuǎn)的基材上。但是它也存在噴涂層，其包括從噴嘴向襯底上投射液體光刻膠。最后，還有與樹(shù)脂干膜一起工作的層壓技術(shù)。

旋涂光刻膠

將光致抗蝕劑放置在基底的中央; 光刻膠的速度，加速度和粘度將決定該層的厚度。與以前的方法相反，這種方法使用了比所需更多的光致抗蝕劑，因?yàn)?/span>95％的光致抗蝕劑在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中會(huì)損失掉。但是，它是實(shí)驗(yàn)室中使用最多的方法，因?yàn)楣饪棠z的旋涂很容易使用且真正可重復(fù)使用。

噴涂光刻膠

對(duì)于噴涂而言，光刻膠必須是真正的液體，通常需要用溶劑稀釋。該混合物使得該過(guò)程在涂覆的光致抗蝕劑層的厚度上非常難以重復(fù)。這種涂層通常需要很大的設(shè)備，并且噴嘴在襯底上的一定數(shù)量的通過(guò)使得可以具有均勻的層。這種技術(shù)的最大優(yōu)點(diǎn)是能夠在高的地形上沉積均勻的光致抗蝕劑層。由于光致抗蝕劑的高粘度，光致抗蝕劑層厚度的選擇受限于薄值以確保具有與厚值相同的均勻?qū)印?/span>

樹(shù)脂層壓

通過(guò)層壓，可以將固體樹(shù)脂涂覆成具有給定厚度的干膜。主要優(yōu)點(diǎn)是有可能創(chuàng)建懸浮結(jié)構(gòu)。該膠片可以直接用不同的供應(yīng)商購(gòu)買，也可以通過(guò)在塑料基材上旋涂完成。

如何選擇用于SU-8光刻的勻膠機(jī)？

旋涂機(jī)的最高速度和加速度

為了控制厚度，必須精確調(diào)整旋轉(zhuǎn)速度和加速度。這兩個(gè)參數(shù)可能是選擇旋涂機(jī)最重要的參數(shù)?；牡男D(zhuǎn)速度幾乎可以自行消除樹(shù)脂涂層的厚度。根據(jù)樹(shù)脂提供商，可以預(yù)測(cè)厚度。請(qǐng)注意，厚度的變化與速度不成線性關(guān)系。市場(chǎng)上的大多數(shù)旋涂機(jī)都會(huì)達(dá)到SU-8微流控模具光刻所需的速度（SU-8旋涂速度通常低于6000 rpm）。請(qǐng)注意加速設(shè)置功能，因?yàn)槟承┬吞?hào)無(wú)法為光刻膠旋涂的不同步驟設(shè)置不同的加速度。

旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)的晶圓固定系統(tǒng)

基材可以用不同的方法固定在旋涂機(jī)上。一個(gè)機(jī)械卡盤可以使晶圓真正居中在旋轉(zhuǎn)的頭上。然而，用于保持晶片的引腳會(huì)干擾旋轉(zhuǎn)期間的樹(shù)脂噴射，并因此在晶片的邊緣上產(chǎn)生更多的缺陷。使用真空吸盤可以解決這個(gè)問(wèn)題，并且能夠形成一個(gè)非常水平的表面（在密封狀態(tài)良好的情況下）。因此它需要在旋涂機(jī)上增加一個(gè)真空泵。更重要的是，必須檢查真空管道內(nèi)沒(méi)有液體（樹(shù)脂或溶劑）進(jìn)入并打破旋涂機(jī)。