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• 光刻機是光刻工藝的核心設備? ? ? ??光刻機(lithography)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光...2022-11-22 08:50:23
• 光刻機——現代光學工業之花光刻機——現代光學工業之花光刻機，被稱為現代光學工業之花，制造難度非常大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。其售價高達7000萬美金。用于生產芯片的光刻...2022-11-17 09:58:03
• 光刻機光刻機2020-08-19 09:16:46
• 一文看懂光刻機較大的情況。9）去膠刻蝕完成后，通過特定溶劑，洗去硅片表面殘余的光刻膠。光刻機： 半導體制造業皇冠上的明珠光刻機根據應用工序不同，可以分為用于生產芯片...2018-05-16 08:59:54
• URE-2000/A8紫外單面光刻機1、設備主要技術指標：(1) 曝光面積：?200mm×200mm；?（2）分辨力：?3mm；（3）對準精度：±2mm；（4）掩模尺寸：5英寸、7英寸、...2018-05-02 13:42:31
• URE-2000/30型光刻機9個透鏡）、i線濾光片、場鏡、冷光反射鏡1、反射鏡2（2）對準工件臺l?光刻機底座l?工位切換臺（氣缸）l?掩模樣片整體運動臺l?掩模樣片相對運動臺l...2018-05-02 13:33:01
• URE-2000/17型光刻機（臺式）URE-2000/17型紫外深度光刻機技術特點：?????????采用雙目雙視場顯微鏡對準；球碗調平,單片機控制,觸摸開關,操作方便、實用性強。?1．技術參數l?曝光面積：4英寸l?...2018-05-02 13:27:42
• Nikon光刻機對準機制和標記系統研究步進式重復曝光光刻機出現于上世紀80年代早期，從那時起直至90年代后期出現第一臺準分子激光光刻機商品為止，各種各樣的G線、I線光刻機統治了集成電路制造中的光刻工藝。...2018-01-31 09:33:17
• 投影式光刻機 Projection Photoetching Machines投影式光刻機一般采用步進-掃描式曝光。光源并不是一次把整個掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統通過一個狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，如1（a）所示。載...2017-12-29 09:04:54