汶顥SU-8、AZ系列光刻膠簡介
SU-8光刻膠
SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側壁和高深寬比的厚膜圖形；它還具有良好的力學性能、抗化學腐蝕性和熱穩定性；在受到紫外輻射后發生交聯，是一種化學擴大負性膠，可以形成臺階等結構復雜的圖形；在電鍍時可以直接作為絕緣體使用。
AZ光刻膠
AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產出率；高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進；廣泛應用于全球半導體行業。
產品型號
| 光刻膠名稱 | 型號 | 勻膠厚度 |
| Merck AZ 正/負可轉換型光刻膠 | AZ 5214 | 0.5-6um |
| AZ 50XT 正膠 | AZ 50XT | 40-80um |
| AZ 9260 正膠 | AZ 9260 | 6.2-15um |
| AZ 4620 光刻膠 | AZ 4620 | 10-15um |
| MicroChem SU-8 負膠 | SU-8 2015 | 13-38um |
| MicroChem SU-8 負膠 | SU-8 2050 | 40-170um |
| MicroChem SU-8 負膠 | SU-8 2075 | 60-240um |
| MicroChem SU-8 負膠 | SU-8 2150 | 190-650um |
| MicroChem SU-8 負膠 | SU-8 3010 | 8-15um |
| MicroChem SU-8 負膠 | SU-8 3050 | 44-100um |
標簽: 光刻膠