微流控芯片是微流控實驗不可缺少的一個核心部件，而且實驗研究的創(chuàng)新在一定程度上也會涉及到芯片構(gòu)型的創(chuàng)新，包括芯片通道的幾何形狀、深寬比、表面修飾化、材質(zhì)等。既然微流體芯片如此重要，芯片的加工設(shè)備和加工技術(shù)就會占有相當(dāng)重要的地位。除了芯片的加工工藝和加工設(shè)備外，為維持芯片的使用壽命，對芯片進(jìn)行合理、有效的清洗，是實驗結(jié)束后的一個十分重要的必備環(huán)節(jié)。良好的芯片沖洗，可以極大的延長芯片的使用次數(shù)。

針對這種情況，現(xiàn)就微流體芯片的沖洗提供幾個簡要的沖洗要點。

通常情況下，在進(jìn)行實驗之前，需要對使用的溶劑進(jìn)行過濾，尤其是芯片的通道小于20 μm，以防止芯片通道被溶劑中的較大夾雜物堵塞。

當(dāng)進(jìn)行完實驗后，可以使用較大的推進(jìn)力把實驗試劑推出芯片外，然后在儲液池中加入與試劑互溶的液體，利用推進(jìn)力把液體推進(jìn)芯片，在芯片的出口端能夠看到幾滴液體流出。然后，使用去離子水沖洗芯片通道；再使用空氣/氮氣/氧氣/氬氣等氣體沖洗芯片通道，便可把芯片通道沖洗干凈。

如果芯片通道內(nèi)有較大的夾雜物堵塞通道，可以先把芯片放置在超聲浴中，利用超聲波清洗10-30 min，然后再使用較大的推進(jìn)壓強(qiáng)如1 bar/2 bar/5 bar或較快的流速（200-500 μL/min）沖洗芯片通道。如此重復(fù)幾次，便可把通道內(nèi)的夾雜物沖到芯片的進(jìn)出口端。

對于硬質(zhì)芯片如玻璃芯片的清洗，如果芯片通道的表面沒有做涂層處理，可以使用NaOH溶液（1 mol/L）進(jìn)行清洗。如果芯片通道的表面做過涂層處理，就不可以使用高濃度的堿溶液或酸溶液清洗，原因是酸或堿溶液隨長時間的清洗會腐蝕掉通道表面的涂層。此時，可以使用低濃度的酸或堿溶液快速的沖洗芯片通道，然后使用去離子水沖洗殘留的酸或堿溶液，使用氣體（空氣/氧氣/氮氣/氬氣等）把芯片通道內(nèi)的液體吹干。

通常情況下，不同液體的清洗順序會在芯片通道的表面留下微弱的殘留痕跡，原因是不同的液體會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或不同的液體有不同的密度和粘度，交叉沖洗會遺留某些液體的殘留痕跡。如果對這些殘留痕跡比較在意，可以先使用與實驗用的試劑沖洗芯片通道，然后使用去離子水或沖洗芯片通道，使用乙醇或異丙醇（IPA）溶液沖洗芯片通道。如果有IPA溶液，可以使用IPA沖洗芯片通道，因為IPA揮發(fā)性較好，不會在芯片通道的表面留下液體痕跡。

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