微流控芯片是微流控實驗不可缺少的一個核心部件，而且實驗研究的創新在一定程度上也會涉及到芯片構型的創新，包括芯片通道的幾何形狀、深寬比、表面修飾化、材質等。既然微流體芯片如此重要，芯片的加工設備和加工技術就會占有相當重要的地位。除了芯片的加工工藝和加工設備外，為維持芯片的使用壽命，對芯片進行合理、有效的清洗，是實驗結束后的一個十分重要的必備環節。良好的芯片沖洗，可以極大的延長芯片的使用次數。

針對這種情況，現就微流體芯片的沖洗提供幾個簡要的沖洗要點。

通常情況下，在進行實驗之前，需要對使用的溶劑進行過濾，尤其是芯片的通道小于20 μm，以防止芯片通道被溶劑中的較大夾雜物堵塞。

當進行完實驗后，可以使用較大的推進力把實驗試劑推出芯片外，然后在儲液池中加入與試劑互溶的液體，利用推進力把液體推進芯片，在芯片的出口端能夠看到幾滴液體流出。然后，使用去離子水沖洗芯片通道；再使用空氣/氮氣/氧氣/氬氣等氣體沖洗芯片通道，便可把芯片通道沖洗干凈。

如果芯片通道內有較大的夾雜物堵塞通道，可以先把芯片放置在超聲浴中，利用超聲波清洗10-30 min，然后再使用較大的推進壓強如1 bar/2 bar/5 bar或較快的流速（200-500 μL/min）沖洗芯片通道。如此重復幾次，便可把通道內的夾雜物沖到芯片的進出口端。

對于硬質芯片如玻璃芯片的清洗，如果芯片通道的表面沒有做涂層處理，可以使用NaOH溶液（1 mol/L）進行清洗。如果芯片通道的表面做過涂層處理，就不可以使用高濃度的堿溶液或酸溶液清洗，原因是酸或堿溶液隨長時間的清洗會腐蝕掉通道表面的涂層。此時，可以使用低濃度的酸或堿溶液快速的沖洗芯片通道，然后使用去離子水沖洗殘留的酸或堿溶液，使用氣體（空氣/氧氣/氮氣/氬氣等）把芯片通道內的液體吹干。

通常情況下，不同液體的清洗順序會在芯片通道的表面留下微弱的殘留痕跡，原因是不同的液體會發生化學反應或不同的液體有不同的密度和粘度，交叉沖洗會遺留某些液體的殘留痕跡。如果對這些殘留痕跡比較在意，可以先使用與實驗用的試劑沖洗芯片通道，然后使用去離子水或沖洗芯片通道，使用乙醇或異丙醇（IPA）溶液沖洗芯片通道。如果有IPA溶液，可以使用IPA沖洗芯片通道，因為IPA揮發性較好，不會在芯片通道的表面留下液體痕跡。

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