光刻機是芯片制作的核心設備之一，依照用處可以分為好幾種：有用于出產芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制作領域的投影光刻機。我國用于出產芯片的高端光刻機完全依靠進口。

　全球最大芯片光刻設備市場供貨商阿斯麥(ASML)近來發布2017第二季財報：ASML第二季營收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV體系訂單，讓EUV光刻體系的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。公司現在年產12臺，2018年將增加到24臺，2019年到達年產40臺的產能。

　　但就是這樣單價超1億美元的昂貴設備，他們卻不賣給我國！

　　有網友說：全球就只有他家能生產的出來，沒有人做的出來。并且還不賣給我國。我國出多少錢都不賣。毛利1000%都可以。這個是在芯片里面畫電路的，都是幾納米，大概是頭發絲的萬分之一巨細電路，你說牛B不。

　　到底是什么光刻設備這么牛，為什么又不能賣給我國呢？

什么是光刻機？

 對于普通人來說，光刻機或許是一個生疏的名詞，但它卻是制作大規模集成電路的中心配備，每顆芯片誕生之初，都要經過光刻技術的鑄造。

 簡略地說，光刻機就是把工程師的規劃‘印入’基底資料，其中心技能長時間被荷蘭、日本、德國等把持。

　　光刻機是芯片制作的中心設備之一，依照用處可以分為好幾種：有用于出產芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制作范疇的投影光刻機。用于出產芯片的光刻機是我國在半導體設備制作上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機徹底依靠進口。

　　現在，光刻機范疇的龍頭老大是荷蘭ASML，并現已占有了高達80%的市場份額，壟斷了高端光刻機市場--最先進的EUV光刻機價格曾高達1億美元一臺，且全球只是ASML可以出產。Intel、臺積電、三星都是它的股東，重金供養ASML，并且有技能人員駐廠，Intel、三星的14nm光刻機都是買自ASML，格羅方德、聯電以及中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自ASML。

ASML：現代芯片不可或缺的支持者
 
　　阿斯麥公司ASML Holding NV創立于1984年，是從飛利浦獨立出來的一個半導體設備制造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改為現用名，總部位于荷蘭費爾德霍芬，全職雇員12，168人，是一家半導體設備設計、制造及銷售公司。
 
　　阿斯麥公司為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。
 
　　目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾，三星，海力士，臺積電，聯電，格芯及其它半導體廠。隨著摩爾定律的發展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻系統，全球只有ASML的NXE：3400B能夠滿足需求。
 
　　未來，只有他的EUV光刻機能夠幫助芯片接續微縮，因此這些設備縱使賣到上億歐元，都能被客戶所接受。

　為什么不賣給我國？

　　作為集成電路制作進程中最中心的設備，光刻機至關重要，芯片廠商想要提高工藝制程，沒有它萬萬不可，我國半導體工藝為啥提高不上去，光刻機被禁售是一個主要因素。

　　這么貴重的設備，為什么不賣給我國呢？這就要說到《瓦森納協議》。

　　《瓦森納協議》又稱瓦森納組織機制，全稱為《關于常規武器和兩用物品及技能出口操控的瓦森納組織》，目前共有包含美國、日本、英國、俄羅斯等40個成員國(注：沒有我國)。盡管“瓦森納組織”規則成員國自行決定是否發放靈敏產品和技能的出口許可證，并在自愿基礎上向“組織”其他成員國通報有關信息。但“組織”實際上徹底受美國操控。當“瓦森納組織” 某一國家擬向我國出口某項高技能時，美國乃至直接出面干與，如捷克擬向我國出口“無源雷達設備”時，美便向捷克施加壓力，迫使捷克中止這項買賣。

　　不過據說這個協議對我國也不是徹底禁售，僅僅禁售最新的幾代設備。瓦森納協議每過幾年都會更新禁售列表，比方2010年90nm以下的設備都是不允許銷售的，到2015年就改成65nm以下的了。

　中外光刻機的巨大距離

　　光刻機被業界稱為集成電路工業皇冠上的明珠，研制的技能門檻和資金門檻十分高。也正是因此，能出產高端光刻機的廠商十分少，到最先進的14nm光刻機就只剩余ASML，日本佳能和尼康現已根本放棄第六代EUV光刻機的研制。

　　相比之下，國內光刻機廠商則顯得十分破舊，處于技能領先的上海微電子配備有限公司已量產的光刻機中功能最好的是90nm光刻機，制程上的距離就很大……國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依靠進口。

　　這不僅使國內晶圓廠要消耗巨資購買設備，對工業開展和自主技能的生長也帶來很大晦氣影響--ASML在向國內晶圓廠出售光刻機時有保留條款，那就是禁止用ASML出售給國內的光刻機給國內自主CPU做代工--只要中芯世界、華力微等晶圓廠收購的ASML光刻機，盡管不影響給ARM芯片做代工，但卻不行能給龍芯、申威等自主CPU做代工、商業化量產。即便是用于科研和國防范疇的小批量出產，也存在必定危險--選用陶瓷加固封裝、專供軍用的龍芯3A1500和在黨政軍商場使用的龍芯3A2000，只能是小批量出產，并且在宣傳上 也只能閃爍其詞的闡明是境內流片……這很大程度上影響了自主技能和我國集成電路工業的開展。

　　2016年，清華大學召開了“光刻機雙工件臺體系樣機研制”項目檢驗會，專家組對項目使命完結情況予以高度評價，并一致同意該項目經過檢驗。

　　工件臺體系是光刻機的重要子體系，工件臺體系的運行速度、加速度、體系穩定性和體系的定位樹立時刻對光刻機的生產精度和功率起著至關重要的效果。本次“光刻機雙工件臺體系樣機研制”項目檢驗，標志我國在雙工件臺體系上獲得技能打破，但這僅僅是完成光刻機國產化萬里長征的一部分，間隔打破ASML的技能獨占還有很長的路要走。

　　日前，“極大規劃集成電路制造配備及成套工藝”國家科技嚴峻專項施行辦理辦公室安排專家，在我國科學院長春光學精密機械與物理研究所召開了“極紫外光刻要害技能研究”項目檢驗會。評定專家組充分肯定了項目獲得的一系列效果，一致同意項目經過檢驗，以為該項意圖順暢施行將我國極紫外光刻技能研制向前推進了重要一步。

　　極紫外光刻光學技能代表了當時應用光學開展最高水平，作為前瞻性EUV光刻要害技能研究，項目目標要求高，技能難度大、瓶頸多，立異性高，一起國外技能封鎖嚴峻。

　　因此我們看到，我國也是獲得了很大的前進的。但是我國想要趕上，絕不是一朝一夕的事，需求各類根底范疇厚實的人才，這也是最難的。

由于西方國家對我國進行技能封閉，我國在芯片工業上遠遠落后于西方，自主出產的芯片更是在工藝上落后幾代。但西方國家的技能封閉并不能讓我國芯片工業的開展停滯不前，我國許多領域都是從無到有自主研發的，在光刻機領域我們也信任我國可以打破獨占，研發出具有自主知識產權的高端光刻機。

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